SrTiO3 分子束外延中的表面重构
材料科学
2015-03-17 v1
摘要
我们表明，反射高能电子衍射 (RHEED) 可作为一种高灵敏度工具，用于追踪 (001) SrTiO3 薄膜在吸附受限分子束外延过程中的表面及最终薄膜化学计量比。即使在生长条件下产生的薄膜其晶格参数在高分辨率 X 射线衍射 (XRD) 的检测限内与化学计量比体相晶体相同，随着 Ti 金属有机源等效束压的增加，表面重构仍会从 (1x1) 变为 (2x1) 再变为 c(4x4)。这些表面重构与从混合 SrO/TiO2 终止到纯 TiO2 终止的转变相关。TiO2 表面终止的交叉也明显表现为生长初期观察到的 RHEED 振荡的相移。与先前掺杂薄膜载流子迁移率结果的比较表明，最佳薄膜是在 XRD 生长窗口内的 TiO2 饱和表面 [c(4x4) 重构] 条件下生长的。
引用
@article{arxiv.1410.8830,
title = {Surface Reconstructions in Molecular Beam Epitaxy of SrTiO3},
author = {Adam P. Kajdos and Susanne Stemmer},
journal= {arXiv preprint arXiv:1410.8830},
year = {2015}
}
备注
Accepted for publication in Applied Physics Letters