钛缓冲层在 Al2O3(0001) 表面的结构与生长
材料科学
2007-05-23 v1
摘要
通过原位反射高能电子衍射 (RHEED) 研究了室温下钛薄膜在 α-Al2O3(0001) 表面的结构。观察到 α相钛沿着 Ti(0001) || Al2O3(0001)、Ti[1100] || Al2O3[2110] 以及 Ti[1010] || Al2O3[1100) 的 epitaxy 生长。对于厚度不超过 6 nm 的薄膜，还发现存在另一种结构，其存在对银的润湿性具有显著影响，部分解释了钛在银/氧化铝界面上非平凡缓冲效应的原因。从 RHEED 数据中，该额外结构被赋值为高压六方晶系 ω-Ti 相。这一结论得到紧密结合的总能量计算的支持，这些计算表明 ω 相确实可以被 α-Al2O3(0001) 衬底稳定。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0406376,
title = {Structure and growth of titanium buffer layers on Al2O3(0001)},
author = {E. Sondergard and O. Kerjan and C. Barreteau and J. Jupille},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0406376},
year = {2007}
}