无限层铜氧化物Sr1-xNdxCuO2薄膜的分子束外延生长与表面结构
超导电性
2020-08-14 v1 材料科学
摘要
我们报道了通过臭氧辅助分子束外延结合原位扫描隧道显微镜，在SrTiO3(001)衬底上外延生长无限层铜氧化物Sr1-xNdxCuO2薄膜及其表面结构。通过精细的衬底温度与束流控制，获得了单相、化学计量比且c轴取向的薄膜。薄膜表面通常由混合CuO2表面和网格状超结构表征。该超结构呈现3.47 nm的周期，对应于覆盖层过氧化物SrO2与下层CuO2面之间的重合晶格，并产生不同于CuO2的Mott-Hubbard能带结构的电导谱。在较高的Nd组分x > 0.1时，出现了空穴掺杂CuO2特有的(2 x 2)表面特征，我们将其归因于中间Sr面中顶端氧的吸入。
引用
@article{arxiv.2008.05725,
title = {Molecular beam epitaxy growth and surface structure of Sr1-xNdxCuO2 cuprate films},
author = {Jia-Qi Fan and Shu-Ze Wang and Xue-Qing Yu and Rui-Feng Wang and Yan-Ling Xiong and Can-Li Song and Xu-Cun Ma and Qi-Kun Xue},
journal= {arXiv preprint arXiv:2008.05725},
year = {2020}
}
备注
5 pages, 4 figures