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Tl-2201中可能的微观掺杂机制

超导电性 2010-12-02 v1

作者: D. C. Peets , D. G. Hawthorn , Ruixing Liang , D. A. Bonn , W. N. Hardy

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摘要

对氧退火、自助熔剂生长的Tl-2201单晶进行的X射线吸收光谱研究表明了一种微观掺杂机制，其中间隙氧原子被吸引到取代铊位的铜原子上，同时向铜氧面和这些铜原子贡献空穴，并且通常只向铜氧面贡献一个空穴而非两个。这些铜取代物将提供本征空穴掺杂。本文讨论了支持这一观点的证据，以及另一种可能的解释。

关键词

Tl-2201 掺杂机制 X射线吸收光谱间隙氧空穴掺杂铜氧化物超导体

引用

@article{arxiv.0909.3358,
  title  = {Possible Microscopic Doping Mechanism in Tl-2201},
  author = {D. C. Peets and D. G. Hawthorn and Ruixing Liang and D. A. Bonn and W. N. Hardy},
  journal= {arXiv preprint arXiv:0909.3358},
  year   = {2010}
}

备注

2 pages, 1 figure, submitted as conference proceedings for M2S-IX, Tokyo