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铁磁金属-石墨烯界面接触电阻的起源

材料科学 2017-06-30 v1 介观与纳米尺度物理

摘要

边缘接触几何结构被认为能在大多数非铁磁金属-石墨烯界面中产生超低接触电阻,这归因于其较大的金属-石墨烯耦合强度。在此,我们使用单层和少层石墨烯,研究了边缘接触与表面接触的铁磁金属-石墨烯界面(即镍-和钴-石墨烯界面)的接触电阻。理论与实验之间获得了良好的定性吻合。特别是,在理论和实验中,我们均观察到,对于所有研究的器件,尤其是单层石墨烯系统,边缘接触的铁磁金属-石墨烯界面的接触电阻远低于表面接触的界面。我们证明,这种电阻差异并非源于金属-石墨烯耦合强度的不同,我们使用哈密顿矩阵元量化了该耦合强度。相反,表面接触中较大的接触电阻源于界面处的自旋过滤,这与两种自旋均能透射的边缘接触情况形成对比。居里温度TC以上的温度依赖电阻测量表明,自旋自由度对于实验测量的接触电阻确实重要。这些结果表明,通过在TC附近改变温度,有可能引起接触电阻的显著变化,从而为基于自旋的温度控制开关铺平了道路。

关键词

引用

@article{arxiv.1706.09591,
  title  = {Origin of Contact Resistance at Ferromagnetic Metal-Graphene Interfaces},
  author = {Khoong Hong Khoo and Wei Sun Leong and John T. L. Thong and Su Ying Quek},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1706.09591},
  year   = {2017}
}

备注

20 pages, 5 figures