固相外延过程中形成的 FeGe$_2$ 有序结构
材料科学
2019-07-12 v1
摘要
通过分子束外延与固相外延（在 FeSi 上生长 Ge）相结合的方法制备了 FeSi/Ge(Fe,Si)/FeSi 薄膜叠层。利用电子显微镜、电子衍射和同步辐射 X 射线衍射对叠层进行了分析。Ge(Fe,Si) 薄膜结晶为取向良好、层状的四方结构 FeGe，空间群为 P4mm。此类结构作为块体材料并不存在，而是由 Ge 在 FeSi 上的固相外延所稳定。我们将其解释为由外延薄膜弹性能最小化所诱导的有序化现象。
引用
@article{arxiv.1907.05189,
title = {Ordered structure of FeGe$_2$ formed during solid-phase epitaxy},
author = {B Jenichen and M Hanke and S Gaucher and A Trampert and J Herfort and H Kirmse and B Haas and E Willinger and X Huang and S C Erwin},
journal= {arXiv preprint arXiv:1907.05189},
year = {2019}
}