利用暗场光学显微镜对 CVD 石墨烯进行无损快速评估
材料科学
2013-05-27 v1
摘要
展示了利用暗场 (DF) 光学显微镜直接在生长基底（铜箔）上对石墨烯进行无损和快速评估的方法。无需任何额外处理，通过 DF 成像即可在化学气相沉积 (CVD) 生长后立即快速识别具有不同覆盖率的铜箔上的石墨烯，其对比度可与扫描电子显微镜相媲美。研究发现，与明场光学成像相比，DF 成像对比度的提高是由于石墨烯下方的铜台阶对光的瑞利散射所致。事实上，由于不同厚度石墨烯区域下方的铜台阶高度不同，石墨烯叠层很容易被区分开来。
引用
@article{arxiv.1305.5754,
title = {Non-destructive and Rapid Evaluation of CVD Graphene by Dark Field Optical Microscopy},
author = {Xianghua Kong and Hengxing Ji and Richard D. Piner and Huifeng Li and Carl W. Magnuson and Cheng Tan and Ariel Ismach and Harry Chou and Rodney S. Ruoff},
journal= {arXiv preprint arXiv:1305.5754},
year = {2013}
}
备注
17 pages, including 4 figures and 5 supporting figures