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绝缘晶体衬底上的石墨烯

材料科学 2009-11-06 v1

摘要

我们表明,可以通过标准技术(机械剥离、光学和原子力显微镜)在SrTiO3_3、TiO2_2、Al2_2O3_3和CaF2_2等晶体衬底上制备和识别超薄石墨烯片。在所考虑的衬底上,我们发现了与常规SiO2_2衬底上类似的单层、双层和少层石墨烯及石墨薄片的分布。通过计算二维金属薄片在电介质表面的光学性质,确定了任何此类衬底上单层石墨烯的光学对比度CC,其值介于C=C= ~- 1.5%(G/TiO2_2)和C=C= ~- 8.8%(G/CaF2_2)之间。该对比度与实验数据合理吻合,足以通过光学显微镜进行识别。石墨烯层以地毯式模式覆盖晶体衬底,且通过原子力显微镜测定的任何晶体衬底上单层石墨烯的高度为dSLG=0.34d_{SLG}=0.34 nm,远小于SiO2_2上的值。

关键词

引用

@article{arxiv.0911.1058,
  title  = {Graphene on insulating crystalline substrates},
  author = {S. Akcoeltekin and M. El Kharrazi and B. Koehler and A. Lorke and M. Schleberger},
  journal= {arXiv preprint arXiv:0911.1058},
  year   = {2009}
}

备注

7 pages, 4 figures