石墨烯对SiO₂形貌特征的高保形贴合
介观与纳米尺度物理
2013-05-29 v1
摘要
通过与图案化衬底的相互作用对石墨烯进行应变工程，为调控其电子特性提供了可能性，但这需要详细理解石墨烯的形貌如何由下方衬底决定。然而，先前关于SiO₂上石墨烯结构的实验报道得出了相互矛盾的结论。在此，我们展示高分辨非接触原子力显微镜对SiO₂的观测揭示了先前测量中未分辨的纳米尺度粗糙度，而扫描隧道显微镜对SiO₂上石墨烯的观测显示其比支撑的SiO₂衬底略为平滑。对石墨烯弯曲刚度与衬底粘附力之间竞争的定量分析，解释了所观测到的单层石墨烯在SiO₂上的粗糙度是外在的，并提供了基于高度保形贴合的直观自然描述。该分析表明，石墨烯对下方衬底形貌的贴合保真度接近99%，直至最小特征尺度。
引用
@article{arxiv.1007.4802,
title = {High-fidelity conformation of graphene to SiO2 topographic features},
author = {William G. Cullen and Mahito Yamamoto and Kristen M. Burson and Jianhao Chen and Chaun Jang and Liang Li and Michael S. Fuhrer and Ellen D. Williams},
journal= {arXiv preprint arXiv:1007.4802},
year = {2013}
}
备注
13 pages, 3 figures plus supplemental information