离子轰击下的纳米尺度自相似表面平滑
材料科学
2009-11-07 v1
摘要
研究了硅表面在正常入射 2 MeV Si 离子束作用下、离子 fluence 范围为 ions/cm 时的表面形貌。通过扫描隧道显微镜观察到在约 50 nm 以下的尺度范围内出现表面平滑，平滑程度在更小的尺度上更为显著。平滑后的表面呈自相似特性，尺度指数为 。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0212563,
title = {Nanoscale self-affine surface smoothing by ion bombardment},
author = {D. K. Goswami and B. N. Dev},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0212563},
year = {2009}
}
备注
11 pages, 4 figures