面向近表面膨胀的中离子束纳米制造
应用物理
2024-10-08 v1 材料科学
摘要
中离子束显微镜是一种灵活的成像和纳米制造仪器，可实现亚10 nm 分辨率的直接写入光刻。由于中离子植入导致的亚表面损伤和膨胀通常是不可取的。然而，这些效应也可用于特定的纳米制造任务。为探索这一点，我们使用 various Irradiation strategies 对bulk 单晶硅和自由支撑的非晶硅氮化膜进行中离子束诱导膨胀研究。我们表明，由于中离子植入产生的近表面空洞可用于诱导表面纳米结构并创建亚表面纳米通道。通过调节离子剂量和束能，可控制膨胀特征的尺寸和深度。 demonstrated 多达数百纳米的膨胀高度，并展示了嵌入式纳米通道的空洞内部直径可达30 nm。潜在应用包括文本化衬底的工程化以及芯片上纳米流体传输装置的原型制作。
引用
@article{arxiv.2410.04953,
title = {Focused helium ion beam nanofabrication by near-surface swelling},
author = {Sherry Mo and Dana O. Byrne and Frances I. Allen},
journal= {arXiv preprint arXiv:2410.04953},
year = {2024}
}