聚焦离子束刻蚀纳米结构化光波导：近场表征
光学
2008-01-29 v1
摘要
由于许多应用，特别是光子晶体中观察到的光子带隙效应，纳米结构已成为一个引人注目的课题。然而，由于对结构的规则性、形状、孔深等有着精确的要求，此类结构的制造仍然是一个挑战。电子束光刻允许对尺寸参数进行良好控制，但需要单步制造过程。在我们的工作中，必须将传统的带状负载波导（SiO2/SiON/SiO2 在 Si 上）与尺寸完全不同的纳米结构相结合。这要求采用两步工艺，依次制造波导和纳米结构。我们拥有多种表征这些纳米结构的方法。在聚焦离子束（FIB）处理期间和之后，可以通过 FIB 和扫描电子显微镜（SEM）成像实现直接的形貌控制。扫描近场光学显微镜（SNOM）目前是通过探测倏逝场来测试此类表面结构中光波导限制的最有效方法。
引用
@article{arxiv.0801.4062,
title = {Nanostructuring Optical Waveguides by Focused Ion Beam Milling. Near-Field Characterization},
author = {F. Lacour and A. Sabac and M. Spajer},
journal= {arXiv preprint arXiv:0801.4062},
year = {2008}
}
备注
Available online at http://www.kps.or.kr/home/kor/journal/library/search.asp?