氦离子束图案化高温铜氧化物纳米收缩器件的光学纳米显微术
介观与纳米尺度物理
2017-03-21 v1
摘要
聚焦至亚纳米尺度的氦离子束 (HIB) 已成为高分辨率成像以及纳米尺度光刻、离子铣削或沉积的强大工具。量化辐照效应对于可靠的器件制造至关重要，但大部分深度剖析信息由计算机模拟而非实验提供。在此，我们使用原子力显微镜 (AFM) 结合扫描近场光学显微镜 (SNOM) 来提供对 HIB 制造的高温超导器件的三维 (3D) 介电表征。通过成像红外介电响应，我们发现名义上 0.5 nm 的 HIB 所造成的非晶化贯穿铜氧化物薄膜整个 26.5 nm 的厚度，并横向延伸约 500 nm。这种出乎意料地广泛的结构和电子损伤可归因于受内部器件界面显著改变的氦深度分布。我们的研究引入了 AFM-SNOM 作为一种定量的纳米尺度断层扫描技术，用于对各种器件中的辐照损伤进行非侵入式三维表征。
引用
@article{arxiv.1703.02101,
title = {Optical Nanoscopy of High-Tc Cuprate Nano-Constriction Devices Patterned by Helium Ion Beams},
author = {Adrian Gozar and Nicholas E. Litombe and Jennifer E. Hoffman and Ivan Bozovic},
journal= {arXiv preprint arXiv:1703.02101},
year = {2017}
}
备注
9 pages, 5 figures