基于原位原子力显微镜深度校正的三维聚焦离子束飞行时间二次离子质谱：空间分辨率、表面粗糙度与氧化
材料科学
2022-10-18 v1 应用物理
摘要
原子力显微镜（AFM）是研究表面粗糙度并获取样品顶层原子特征深度信息的知名工具。通过在扫描电子显微镜（SEM）中将二次离子质谱（SIMS）与聚焦离子束（FIB）铣削相结合，可以以高横向和深度分辨率对溅射结构的化学信息进行可视化与定位。本文在配备飞行时间二次离子质谱（ToF-SIMS）探测器的 TESCAN FIB-SEM 仪器中安装了一台高真空（HV）兼容的 AFM。为研究 ToF-SIMS 溅射造成的坑深，随后在多层垂直腔面发射激光器（VCSEL）样品上进行了 AFM 测量。表面粗糙度与铣削深度被用于辅助溅射体积化学成分的高精度三维重建。文中分析了可实现的分辨率、溅射过程中的表面粗糙度以及表面氧化问题。因此，互补探测器的集成开启了确定样品特性以及理解分析过程中分析方法对样品表面影响的能力。
引用
@article{arxiv.2003.13294,
title = {In situ atomic force microscopy depth-corrected 3-dimensional focused ion beam based time-of-flight secondary ion mass spectroscopy: spatial resolution, surface roughness, oxidation},
author = {Lex Pillatsch and Szilvia Kalácska and Xavier Maeder and Johann Michler},
journal= {arXiv preprint arXiv:2003.13294},
year = {2022}
}
备注
Submitted (13 Dec. 2019) for review