基于离子束研磨的纳米掩模制造用于自旋传输扭矩研究
介观与纳米尺度物理
2021-03-25 v1 材料科学
摘要
采用聚焦离子束研磨用于制造适用于自旋传输扭矩研究的磁性纳米结构的纳米掩模. 纳米掩模用于在薄膜堆成长前定义器件尺寸. 它们由耐湿刻蚀的顶层和绝缘层组成，这些绝缘层位于预先刻好的底电极上. 绝缘层支撑硬掩模，并通过其选择性刻蚀产生倒角. 通过制造垂直于平面 Co/Cu/Co 纳米圆柱管态器件演示了该方法，该器件显示出电流诱导的磁化动力学.
引用
@article{arxiv.cond-mat/0512283,
title = {Focused-ion-beam milling based nanostencil mask fabrication for spin transfer torque studies},
author = {B. Oezyilmaz and G. Richter and N. Muesgens and M. Fraune and M. Hawraneck and B. Beschoten and G. Guentherodt and M. Bueckins and J. Mayer},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0512283},
year = {2021}
}
备注
13 pages, 3 figures, submitted to APL