Ar$^+$ 离子束溅射诱导的硅表面形貌变化

V. O. Kharchenko; D. O. Kharchenko

doi:10.5488/CMP.14.23602

Ar$^+$ 离子束溅射诱导的硅表面形貌变化

材料科学 2011-07-01 v1

作者: V. O. Kharchenko , D. O. Kharchenko

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摘要

本文提出了 Ar $^+$ 离子溅射在硅靶上形成纳米级图案的双层模型。讨论了展示可能纳米尺寸表面图案的相图。定义了结构波长对入射离子能量依赖关系的标度特性。获得了相图不同区域中的生长指数和粗糙度指数。

关键词

离子束溅射硅表面纳米级图案形成相图标度特性生长指数粗糙度指数

引用

@article{arxiv.1106.6256,
  title  = {Morphology change of the silicon surface induced by Ar$^+$ ion beam sputtering},
  author = {V. O. Kharchenko and D. O. Kharchenko},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1106.6256},
  year   = {2011}
}

备注

11 pages, 5 figures

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