离子诱导纳米图案化的关键因素
材料科学
2015-06-03 v1
摘要
我们报道了在 60^{\circ} 入射角下，将 8 keV 的 He1+、N1+、O1+、Ar1+ 原子离子和 16 keV 的 N21+、O21+ 分子离子轰击 Si(100) 表面时，弹丸质量、化学反应性及分子束效应对离子诱导纳米结构形成的影响。原子力显微镜（AFM）测量表明，波纹结构的引发与生长不仅由碰撞级联决定，还受弹丸的化学反应性与分子态影响。本实验研究探索了离子诱导可控纳米图案化的必要条件。
引用
@article{arxiv.1111.7115,
title = {Key factors of ion induced nanopatterning},
author = {S. Bhattacharjee and P. Karmakar and A. Chakrabarti},
journal= {arXiv preprint arXiv:1111.7115},
year = {2015}
}