辐照薄膜中影响纳米图案化临界角的物理机制：II. 碰撞级联细节
材料科学
2022-11-01 v1
摘要
对非晶化材料（如Si或Ge）的离子束辐照可能导致在束流相对于表面超过某一临界角时自发形成图案。实验结果表明，该临界角随束流能量、离子种类和靶材料而变化。然而，大多数主流理论分析预测临界角为，与能量、离子和靶无关，与实验不符。在这组论文的第二部分中，我们考虑非晶薄膜上下界面之间关系（“界面关系”）的影响。受我们前期工作的启发，我们基于几何论证推导描述界面关系关于碰撞级联形状的闭式表达式。这一特征导致对离子、靶和能量依赖性在临界角选择中影响的精细化刻画。
引用
@article{arxiv.2210.16687,
title = {Physical mechanisms affecting critical angle for nanopatterning in irradiated thin films: II. Collision cascade details},
author = {Tyler Evans and Scott Norris},
journal= {arXiv preprint arXiv:2210.16687},
year = {2022}
}