无序基底上薄膜界面剪切裂纹的形核
材料科学
2009-11-13 v1 统计力学
摘要
我们建立了一个关于束缚在刚性基底上的薄膜剪切破坏的理论模型。薄膜与基底之间的界面被建模为具有随机波动剪切强度/断裂能的内聚层。我们证明,在与薄膜厚度相比很大的尺度上,作用于界面的内部剪切应力可以近似为跨界面剪切位移的二阶梯度。该模型用于研究一维剪切裂纹,我们评估了临界裂纹形核的应力依赖概率。这被用于确定界面剪切强度作为薄膜几何形状和界面统计特性的函数。
引用
@article{arxiv.0811.3611,
title = {Nucleation of interfacial shear cracks in thin films on disordered substrates},
author = {Michael Zaiser and Paolo Moretti and Avraam Konstantinidis and Elias C Aifantis},
journal= {arXiv preprint arXiv:0811.3611},
year = {2009}
}
备注
10 pages, 3 figures