硅自组织离子束图纹化过程中的纳米尺度动力学：I. Ar$^+$ 轰击
材料科学
2021-06-02 v2
摘要
利用相干掠入射小角X射线散射，研究了在65极角下Ar轰击硅自组织纳米图纹化过程中的平均动力学与涨落动力学。在早期，表面行为可在线性理论框架内理解。通过强度关联函数观察到向非线性理论行为的转变。它迅速演化，在短长度尺度上呈现拉伸指数衰减，在对应于主导结构长度尺度——涟漪波长——的长度尺度上呈现压缩指数衰减。关联时间也在涟漪长度尺度上强烈达峰。该行为与de Gennes变窄现象有显著相似性但也存在重要差异。总体而言，发现该动力学行为与一个非线性生长模型的模拟一致。
引用
@article{arxiv.2007.12253,
title = {Nanoscale dynamics during self-organized ion beam patterning of Si: I. Ar$^+$ Bombardment},
author = {Peco Myint and Karl F. Ludwig and Lutz Wiegart and Yugang Zhang and Andrei Fluerasu and Xiaozhi Zhang and Randall L. Headrick},
journal= {arXiv preprint arXiv:2007.12253},
year = {2021}
}
备注
10 pages, 12 figures