使用乙烯作为碳前驱体激光辅助沉积 r-B4C 涂层
材料科学
2007-05-23 v1
摘要
在熔融石英衬底上，通过 CO2 激光辅助化学气相沉积（LCVD），使用 BCl3、C2H4 和 H2 的动态反应气氛合成了菱方 B4C 涂层。在高达 0.12 微米每秒的沉积速率下，生长出碳含量从 15 到 22 at.% 的薄膜。研究了用于沉积 B4C 薄膜的反应系统动力学以及生长条件对沉积物结构和形貌的影响。关键词：菱方碳化硼 (r-B4C)、Laser-CVD、生长动力学。
关键词
引用
@article{arxiv.cond-mat/0210414,
title = {Laser-Assisted Deposition of r-B4C Coatings Using Ethylene as Carbon Precursor},
author = {M. J. Santos and A. J. Silvestre and O. Conde},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0210414},
year = {2007}
}
备注
10 pages, 4 figures