低压 RF 等离子体化学选择性清洗后碳污染 B4C 涂层光学元件的特性表征
材料科学
2018-03-06 v1 等离子体物理
摘要
碳化硼 (B4C) 是少数几种预期对自由电子激光器 (FELs) 产生的光束的极高亮度具有较强韧性的材料之一，因此在该领域的光学应用中备受关注。然而，与许多在现代光源设施中运行的其他光学元件一样，B4C 涂层光学元件也容易受到无处不在的碳污染。由于光子通量的严重减少、光束相干性的降低、破坏性干涉的产生以及散射损失，这些污染对高性能 FEL 光束线的运行构成了严重问题。不同实验室开发了多种 B4C 清洗技术，效果各异。我们展示了一项关于使用 IBSS GV10x 下游等离子体源，按照以往研究产生电感耦合 O2/Ar、H2/Ar 和纯 O2 RF 等离子体，对碳污染 B4C 测试样品进行低压 RF 等离子体清洗的研究。报告了等离子体清洗前后 B4C 光学涂层的化学、形貌以及其他方面的结果。从这些对比等离子体过程中我们得出结论，纯 O2 进料等离子体仅表现出维持 B4C 光学涂层完整性所需的化学选择性。
引用
@article{arxiv.1708.06112,
title = {Characterization of Carbon-Contaminated B4C-Coated Optics after Chemically Selective Cleaning with Low-Pressure RF Plasma},
author = {H. Moreno Fernández and D. Rogler and G. Sauthier and M. Thomasset and R. Dietsch and V. Carlino and E. Pellegrin},
journal= {arXiv preprint arXiv:1708.06112},
year = {2018}
}
备注
27 pages, 15 figures