激光 CVD 沉积 TiN 薄膜的生长动力学研究
材料科学
2007-05-23 v2
摘要
本文报道了在低碳钢基底上通过热解激光诱导化学气相沉积（LCVD）沉积的氮化钛（TiN）薄膜的化学成分、结构和生长动力学结果。以连续波 TEM00 CO2 激光束为热源，从 TiCl4、N2 和 H2 的反应混合气体中沉积出金黄色的 TiN 线条。薄膜的化学成分和结构通过电子探针显微分析（EPMA）和掠入射 X 射线衍射（GIXRD）测定。使用非接触式激光轮廓仪测量了薄膜的厚度轮廓。利用 TiN 激光写入线条稳态区获得的数据，推导出 3.7 至 6.9 微米每秒的生长速率。沉积速率与沉积温度之间的 Arrhenius 关系给出了 46.9(+-)3.8 kJ.mol-1 的表观活化能。该结果使我们得出结论：在我们的沉积条件下，TiN 的 LCVD 过程由气相中的质量输运控制。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0210461,
title = {TiN Films Deposited by Laser CVD: A Growth Kinetics Study},
author = {A. J. Silvestre and O. Conde},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0210461},
year = {2007}
}
备注
12 pages, including 7 figures and 1 table