激光辅助碳纳米管生长的动力学
化学物理
2017-09-13 v1 材料科学
摘要
激光辅助化学气相沉积（CVD）生长是一种极具吸引力的无掩模工艺，用于在温度敏感基板上的选定位置生长局部取向的碳纳米管（CNTs）。局部化工艺的特性使得碳纳米管生长迅速且实验通量高。在此，我们报告了与物理和化学工艺特性相关的生长动力学的详细研究。具体而言，通过监测生长过程中反射激光束强度的动态变化来研究生长动力学。得益于快速生长和高实验通量，我们研究了广泛的实验条件并提出了若干生长区域。使用与所提出生长区域相关联的速率方程确定了速率限制步骤，并通过 Raman 光谱和扫描电子显微镜（SEM）进一步表征，从而将生长区域与 CNTs 的结构质量直接联系起来。发现不同区域的活化能在 0.3 - 0.8 eV 范围内。
引用
@article{arxiv.1401.2341,
title = {Kinetics of Laser-Assisted Carbon Nanotube Growth},
author = {Yoeri van de Burgt and Yves Bellouard and Rajesh Mandamparambil},
journal= {arXiv preprint arXiv:1401.2341},
year = {2017}
}
备注
12 pages, 17 figures