化学溶液沉积法制备La2Zr2O7薄膜
材料科学
2010-06-29 v1
摘要
研究了使用丙酸盐通过化学溶液沉积(CSD)工艺形成La2Zr2O7(LZO)块体粉末和薄膜的过程。处理过程包括在还原性成形气体(Ar-5%H2)中一步循环，以与Ni-5at%W RABITS兼容。在此条件下形成的LZO粉末中发现大量残余碳(10 wt%)。Ni-5at%W RABITS上LZO薄膜中立方织构的体积分数被发现是样品上方气体流速的函数。这一现象在考虑前驱体热解过程中释放的含碳气体沉积的碳时进行了讨论。使用适当条件(950°C和气体流速6.8×10^{-2} m/s)，可以在Ni-5at%W RABITS上获得具有良好表面结晶度的LZO薄膜，如X射线衍射、电子背散射衍射和RHEED所证实。氧化物薄膜中残余碳的存在是CSD工艺在还原条件下沉积薄膜的常见问题。
引用
@article{arxiv.1003.4859,
title = {Deposition of La2Zr2O7 Film by Chemical Solution Deposition},
author = {Z. M. Yu and Philippe Odier and S. Morlens and P. Chaudouet and Maria Bacia and L. Zhou and P. X. Zhang and L. H. Jin and C. S. Li and David Philippe and Olivier Fruchart and Y. F. Lu},
journal= {arXiv preprint arXiv:1003.4859},
year = {2010}
}