Ga 在 $\beta$-Ga$_2$O$_3$ 中空位与间隙扩散的研究:基于 split 缺陷的直接方法
材料科学
2024-02-15 v1
摘要
单斜 -GaO 的低对称性导致复杂的本征缺陷,例如 Ga 空位被分散到多个晶格位点上。这些缺陷导致快速的各向异性 Ga 扩散,但其复杂性使得理解主导扩散机制具有挑战性。本文通过首 principles 计算和直接求解 master 扩散方程,预测 Ga 间隙 (Ga) 和空位 (V) 的 3D 扩散张量。我们首先探讨配置复杂的''-split'' Ga 间隙和空位的最大可能范围。确定主导低能缺陷后,我们枚举所有可能的 elementary 跳跃,包括 interstitialcy 跳跃。通过 nudged elastic band 模拟获取跳跃势垒。最后,使用(i)缺陷配置及其能量以及(ii)连接它们的跳跃势垒构建 Ga 和 V 的 master 扩散方程。求解这些方程可获得 Onsager 输运系数,即 3D 扩散系数张量 和 ,分别对应 Ga 和 V。进一步揭示了所有晶轴方向上的活跃扩散路径。我们发现,Ga 和 V 的扩散都沿 轴最快,这是由于沿 轴桥接相邻单元胞的 3-split 缺陷将扩散物质绕过高能瓶颈所致。虽然孤立 Ga 的扩散速度快于孤立 V,但由于在大多数热力学环境下 V 缺陷浓度更高,故 Ga 的自扩散主要由 V 介导。
引用
@article{arxiv.2402.09354,
title = {Investigation of Ga interstitial and vacancy diffusion in $\beta$-Ga$_2$O$_3$ via split defects: a direct approach via master diffusion equations},
author = {Channyung Lee and Michael A. Scarpulla and Elif Ertekin},
journal= {arXiv preprint arXiv:2402.09354},
year = {2024}
}