具有扩展粒子的非均匀排除过程：缺陷位置的影响

我们研究了局部非均匀性（即跃迁速率 $q<1$ 的慢速位点）对大小为 $\ell \geq 1$（以晶格间距为单位）粒子的全不对称简单排除过程（TASEP）的影响。我们比较了 $\ell =1$ 和 $\ell >1$ 的模拟结果，发现局部缺陷的存在对稳态具有定性相似的影响。我们重点关注稳态电流以及密度分布。如果系统中只有一个慢速位点，我们观察到对于 $\ell =1$ 和 $\ell >1$ 两种情况，电流都显著依赖于慢速位点的\emph{位置}。当引入两个慢速位点时，会出现更有趣的现象，例如当两个位点靠近时电流急剧下降。此外，我们研究了 $q\to 0$ 时的渐近行为。我们还探讨了相关的密度分布，并将我们的发现与早期使用简单平均场理论的研究进行了比较。最后，我们概述了这些效应的生物学意义。