氢化与非晶氯化硅的红外光谱研究
材料科学
2021-10-11 v1
摘要
本文给出了氢化与非晶氯化硅薄膜的红外透射谱随氯浓度和退火温度变化的演化结果。随着氯含量的增加，观察到 2100 cm-1 谱带强度增大。我们将此效应归因于 SiH2Cl2 混合构型的存在。在未退火样品中位于 545 cm-1 的 SiCl 伸缩振动带，随退火温度升高持续位移至 590 cm-1。该位移归因于约 500°C 时 SiCl2 物种占主导，以及其在 700°C 以上转变为 SiCl 物种和 SiCl 分子。
引用
@article{arxiv.2110.03770,
title = {Infrared spectroscopy of hydrogenated and chlorinated amorphous silicon},
author = {S. Kalem and R. Mostefaoui and J. Bourneix and J. Chevallier},
journal= {arXiv preprint arXiv:2110.03770},
year = {2021}
}