基于TEOS前驱体经PECVD法制备的增强反射率SiN$_x$/SiO$_x$ DBR镜
光学
2021-12-24 v1 应用物理
摘要
本研究考察了由气体前驱体甲硅烷（SiH）与硅有机前驱体正硅酸乙酯（TEOS）产生的氧化硅粗糙度对分布式布拉格反射镜（DBR）光学性质的影响。本研究证明了沉积SiOx所用水源前驱体对DBR镜光学性质有显著影响。实验表明，由TEOS前驱体制作的镜比使用SiH4制作的镜具有更优性质，即反射率提升20%且光学损耗减半。SiN/SiO/(TEOS)镜面的粗糙度平均值（Ra）较SiN/SiO/(SiH4)镜面降低了五倍。
引用
@article{arxiv.2112.12525,
title = {Enchanced reflectance SiN$_x$ / SiO$_x$ DBR mirror based on TEOS precursor fabricated by PECVD method},
author = {I. M. Asharchuk and M. V. Shibalov and A. M. Mumlyakov and P. A. Nekludova and G. D. Diudbin and E. V. Zenova and N. V. Minaev and A. A. Pavlov and M. A. Tarkhov},
journal= {arXiv preprint arXiv:2112.12525},
year = {2021}
}