结合原子力显微镜和电子束光刻用于制作可变耦合量子点
介观与纳米尺度物理
2007-05-23 v1
摘要
我们将局部电解氧化直接纳米加工与传统电子束光刻相结合，用于制造基于 GaAs/AlGaAs 异结构的平行双量子点。两种纳米光刻方法的结合允许我们在同一器件上制造稳健的平面栅极和 Cr/Au 顶栅电极，以获得最佳可控性。这一可控性通过我们器件中可调的点间耦合得到说明。我们详细描述了制造和对准方案，并在低温传输测量中演示了可控性。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0307743,
title = {Combined atomic force microscope and electron-beam lithography used for the fabrication of variable-coupling quantum dots},
author = {M. C. Rogge and C. Fuehner and U. F. Keyser and R. J. Haug and M. Bichler and G. Abstreiter and W. Wegscheider},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0307743},
year = {2007}
}
备注
4 pages, 3 figures