随机稀释接触过程的普适性
统计力学
2015-03-17 v1
摘要
我们展示了二维接触过程在淬火无序（通过随机稀释一部分格点引入，这些格点不易受感染）下的准稳态模拟。我们的结果强烈表明，静态指数与免疫比例无关。此外，由于主导统计的稀有有利区域，临界矩比率 偏离了在非稀释系统中观测到的普适比率 ，降至更小的值。
引用
@article{arxiv.1101.1100,
title = {Universality of the contact process with random dilution},
author = {Marcelo M. de Oliveira and Silvio C. Ferreira},
journal= {arXiv preprint arXiv:1101.1100},
year = {2015}
}