突然桥接下边界域生长中的普适性

我们报道了在最大浓度极限下簇聚集中边界域生长的普适性。最大浓度意味着簇的扩散率实际上为零，取而代之的是簇在渗流过程中连续合并，从而导致边界域的突然生长。对于线性尺寸为 L 的二维正方形晶格，无论本文研究的模型如何，我们发现边界界面宽度的最大值，即磁化率 $\chi$，表现出标度关系 $\chi \sim L^{\gamma}$，其普适指数 $\gamma = 1$。在渗流阈值处边界域的快速生长（几乎任何簇渗流过程都必然发生）是 $\chi$ 普适标度的基础。