基于拓扑材料的点隙拓扑相通用平台
介观与纳米尺度物理
2024-08-22 v5 材料科学
量子物理
摘要
尽管点隙拓扑相是非厄米系统所固有的奇异现象的根源，但其在量子材料中的实现仍难以捉摸。在此，我们提出一个由厄米拓扑绝缘体与超导体构建的、简单且通用的点隙拓扑相平台。我们证明，通过对d维拓扑绝缘体与超导体制造耗散边界，可实现(d-1)维点隙拓扑相。该方案的一个关键观察是：在d维拓扑绝缘体与超导体的边界模上添加衰减常数，在拓扑上等价于在边界上附着一个(d-1)维点隙拓扑相。我们进一步由扩展版本的Nielsen-Ninomiya定理确立了该方案，将耗散无能隙模与点隙拓扑数相联系。由点隙拓扑相的体-边对应关系，所得点隙拓扑相表现出奇异边界态或带隙内高阶非厄米趋肤效应。
引用
@article{arxiv.2304.08110,
title = {Universal platform of point-gap topological phases from topological materials},
author = {Daichi Nakamura and Kazuya Inaka and Nobuyuki Okuma and Masatoshi Sato},
journal= {arXiv preprint arXiv:2304.08110},
year = {2024}
}
备注
6+6 pages, 4+4 figures, 1+0 table