自旋玻璃基态在单键改变下的普适脆性

我们考察了在各类二维、三维晶格及正则随机图上，以高斯耦合常数分布的最近邻伊辛自旋玻璃中，扰动单个键对基态的影响。结果显示基态对此类改变异常敏感。仅将单个键的强度改变超过临界阈值，便会产生一个新的基态，其与原始基态的差异表现为一个翻转自旋液滴，其边界与体积随系统尺寸发散——该效应令人联想到更为熟知的无序混沌现象。这些具有分形边界的基元零能液滴及其组合体呈现出稳健特征，并提供了最低能量的宏观自旋玻璃激发。值得注意的是，在数值精度范围内，此类液滴的尺寸服从近乎普适的幂律分布，其指数依赖于系统的空间维度。此外，临界耦合强度遵循拉伸高斯分布，主要由局域配位数决定。