图案化石墨烯的选择性转移

石墨烯是一类新兴的二维（2D）材料，具有独特的电学性能和广泛的潜在实际应用。此外，与其他 2D 材料、金属微结构、硅光子晶体腔和波导相结合的石墨烯混合结构，在范德华异质结、混合石墨烯等离激元学、混合光电器件和光调制器中具有更广泛的应用。基于成熟的转移方法，化学气相沉积（CVD）生长的石墨烯目前被用于大多数石墨烯混合应用。虽然高度取向热解石墨的机械剥离提供了最高质量的石墨烯，但将所需的微剥离石墨烯（MG）转移到特定位置的结构上是一个关键挑战，限制了 MG 与其他结构的结合。在此，我们报告了一种利用双层聚合物结构和飞秒激光微加工技术，将 MG 图案和器件选择性转移到选定目标上的新技术。这种选择性转移技术能够将图案化石墨烯精确转移到选定目标上，同时将其他薄片留在原始基底上，为制造基于 MG 的微器件提供了一条有效途径。该方法将促进范德华异质结的制备，并实现石墨烯混合器件性能的优化。