基于商业聚乙烯氯化物薄膜的高性能范德华异构结构装配

对二维材料在范德华异构结构中位置、取向和堆叠顺序的控制对于电子器件、自旋器件、光学器件和传感器等应用至关重要。最流行的组装二维材料策略使用专用印章，其工作表面由几种不同聚合物中的一种制成。然而，这些印章通常需要繁琐的制备步骤，且存在耐久性差、易受污染以及仅限于特定二维材料或表面的局限性。本文展示了显著改进当前二维片状物转移和装配实践的方法，采用由聚乙烯氯化物（PVC）薄膜制造的机械耐久印章。这些印章Compared with existing methods更容易制备，可承受多次转移循环，实现更大的可重用性。我们使用两种商业可用的PVC薄膜，其吸附和释放温度各异。这些薄膜还可实现聚合物间片状物转移以及倒置异构结构的堆叠翻转制造，形成一个无缝的工艺。系统比较的清洁工艺确认从装配结构中去除了PVC衍生的残留物，以创建原子级干净界面。我们通过制造石墨/六氟磷烯酰胺异构结构器件，展示了这些聚合物薄膜和转移工艺的实用性和通用性。进一步，我们展示了能够吸附和沉积bulk铝镓砷化物纳米结构薄膜，以实现异构集成器件的制造。这一技术提高了制造效率，改善了器件质量，使更复杂的结构成为可能，从而促进了广泛应用领域的纳米材料装配。