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拓扑绝缘体能带结构中的温度效应

材料科学 2016-11-30 v2

摘要

我们利用第一性原理方法研究了温度对 Bi2_2Se3_3 族拓扑绝缘体能带结构的影响。温度升高驱使这些材料向正常态转变,其中热膨胀和电声子耦合的贡献相当。带隙随温度的变化在 600600 K 时达到 0.30.3 eV,与电子关联引起的变化相当。我们的结果表明,在其他外部参数的临界点附近,应该能够观测到温度诱导的拓扑相变。

关键词

引用

@article{arxiv.1608.00584,
  title  = {Temperature effects in the band structure of topological insulators},
  author = {Bartomeu Monserrat and David Vanderbilt},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1608.00584},
  year   = {2016}
}

备注

5 pages, 3 figures