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声子诱导的拓扑绝缘体

强关联电子 2014-05-09 v1 介观与纳米尺度物理 材料科学

摘要

我们发展了 Dirac 材料中声子诱导拓扑绝缘体的近似理论。在弱耦合机制下,长波声子可能有利于具有直接且窄带隙的 Dirac 绝缘体中的拓扑相。这一现象源于电子 - 声子矩阵元,其在能带反转下发生定性变化。类似的机制适用于弱库仑相互作用和自旋无关无序;然而,这些因素对能带拓扑的影响很大程度上与温度无关。作为该理论的应用,我们分别评估了 CdTe/HgTe 量子阱和 BiTl(S1δ_{1-\delta}Seδ)2_{\delta})_2中拓扑转变的临界厚度和临界化学计量比的温度依赖性。

关键词

引用

@article{arxiv.1403.3880,
  title  = {Phonon-induced topological insulation},
  author = {Kush Saha and Ion Garate},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1403.3880},
  year   = {2014}
}

备注

15 pages, 8 figures