用于超越极紫外光学的Mo/B周期性多层X射线反射镜的制备与结构分析
应用物理
2020-11-13 v2 材料科学
摘要
开展了用于超越极紫外(BEUV)光学的Mo/B周期性多层X射线反射镜(PMMs)的制备与结构分析。该多层镜通过脉冲直流与射频(RF)磁控溅射相结合的方式沉积。采用高分辨透射电子显微镜、X射线光电子能谱和掠入射X射线反射术对结构进行了分析。在Mo/B界面处观察到由钼硼化物混合物构成的厚度为0.35 nm的界面层。此外，报道了0.3–0.4 nm的低界面粗糙度。由于溅射功率增加，衬底温度升高，导致界面层厚度与界面粗糙度增大，随后PMM的光学性能恶化。基于PMM的真实结构进行了理论计算，以预测在6.7 nm工作波长下的反射率。约49%的反射率是传统B4C基BEUV反射镜的两倍。根据本研究结果可得出结论，所制备的PMMs性能优于传统反射镜，可有效用于下一代BEUV光刻技术的开发。
引用
@article{arxiv.2006.13418,
title = {Synthesis and structural analysis of Mo/B periodical multilayer X-ray mirrors for beyond extreme ultraviolet optics},
author = {Oleksiy V. Penkov and Igor A. Kopylets and Valeriy V. Kondratenko and Mahdi Khadem},
journal= {arXiv preprint arXiv:2006.13418},
year = {2020}
}