周期性 Mo/Si 多层膜分析：Mo 厚度的影响
材料科学
2012-12-07 v1
摘要
采用无损分析方法研究了一组 Mo/Si 周期性多层膜。Si 层的厚度为 5 nm，而 Mo 层的厚度在不同多层膜之间从 2 nm 变化到 4 nm。这使得我们能够探测 Mo 层在靠近 Si 界面处从非晶态到晶态的转变对多层膜光学性能的影响。正如在波长为 0.154 nm 的 X 射线反射率 (XRR) 观测中所见，这种转变导致了 Mo 层折射率（密度变化）的变化。结合 X 射线发射光谱和 XRR，确定了由 Mo 层与 Si 层相互作用形成的界面层的参数（成分、厚度和粗糙度）。然而，这些参数并未随 Mo 厚度的变化而发生显著演变。通过 1.33 nm 处的漫散射观测发现，当 Mo 厚度从 2 nm 增加到 3 nm 时，粗糙度的横向关联长度急剧减小。这是由于平行于多层膜表面的 Mo 微晶的发展所致。
引用
@article{arxiv.1212.1258,
title = {Analysis of periodic Mo/Si multilayers: influence of the Mo thickness},
author = {H. Maury and Jean-Michel André and Karine Le Guen and N. Mahne and Angela Giglia and S. Nannarone and Françoise Bridou and Franck Delmotte and Philippe Jonnard},
journal= {arXiv preprint arXiv:1212.1258},
year = {2012}
}