多层 3R-MoS2 线性和非线性光学性质的厚度依赖性
光学
2025-11-20 v1
摘要
3R-MoS2 是一种破坏反演对称性的 MoS2 多晶型，能够实现独特的光-物质相互作用，适用于单层以下的线性和非线性集成光子学。然而，针对其厚度依赖性反射率及其对谐波产生影响的系统性研究仍不足。本文介绍了一种非破坏性光学方法，用于从反射率测量中确定 3R-MoS2 薄片的厚度，具有小于 2 nm 平均偏差的精度，类似于 AFM，但更快且适用于非固体基底如 PDMS，在 3-200 nm 范围内。进一步的非线性表征揭示了第二-和第三-谐波产生 (SHG/THG) 的厚度依赖性特征最大值，其中第一个清晰的峰值出现在约 200 nm 处。这些最大值源于由薄膜厚度介导的 Fabry-Pérot 型相匹配条件，并且可以通过吸收进行调制。该工作因此提供了一种实用的厚度测量方法以及新的见解，用于在可扩展的光子技术中利用厚度依赖性 3R-MoS2 非线性效应。
引用
@article{arxiv.2511.15451,
title = {Thickness-dependence of Linear and Nonlinear Optical Properties of Multilayer 3R-MoS2},
author = {Fatemeh Abtahi and Alen Shaji and Gia Quyet Ngo and Benjamin Laudert and Hossein Esfandiar and Sebastian W. Schmitt and Falk Eilenberger},
journal= {arXiv preprint arXiv:2511.15451},
year = {2025}
}