用于 C 波段电光调制的溅射沉积硅上 PZT 优化
材料科学
2023-05-23 v1 光学
摘要
铁电材料展现出有趣的电学、力学和光学性质。特别地,钛酸铅锆(PZT)薄膜已作为微机电系统中的标准压电材料使用。有趣的是,它具有较高的电光性质之一,可被利用来制造高速片上光调制器。在本工作中,我们展示了在绝缘体上硅晶圆上溅射沉积的 PZT。通过工艺和缓冲层工程实现了所需的相和薄膜形貌。我们给出了 MgO、TiO2 和 Pt 之间缓冲层筛选的结果。从光学和薄膜生长角度看,MgO 被确定为合适的缓冲层。我们测得 PZT/MgO 和 PZT/Pt 薄膜的矫顽场分别为 50 kV/cm 和 30 kV/cm。我们使用了一个 PZT 负载环形调制器,其电光响应为 14 pm/V。
引用
@article{arxiv.2305.13263,
title = {Sputter-deposited PZT-on-Silicon Optimization for C-band Electro-Optic Modulation},
author = {Suraj and Shankar Kumar Selvaraja},
journal= {arXiv preprint arXiv:2305.13263},
year = {2023}
}
备注
11 pages, 8 figures and 1 table