铷聚焦离子束诱导铂沉积

Yang Li; Sheng Xu; Meltem Sezen; Feray Bakan Misirlioglu; Edgar Vredenbregt

doi:10.1116/6.0002609

铷聚焦离子束诱导铂沉积

应用物理 2023-07-05 v1

作者: Yang Li , Sheng Xu , Meltem Sezen , Feray Bakan Misirlioglu , Edgar Vredenbregt

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摘要

本工作表征了使用铷离子和镓离子进行铂的聚焦离子束诱导沉积（FIBID）。在相似束能量（Rb $^+$ 为 8.5 keV，Ga $^+$ 为 8.0 keV）和近 10 pA 的束流下，两种离子物种以相似速率沉积 Pt 薄膜。能量色散 X 射线光谱显示，Rb $^+$ FIBID-Pt 具有与 Ga $^+$ FIBID-Pt 相似的 Pt 含量，但初级离子含量低得多（Rb 为 5%，Ga 为 27%）。测得沉积材料的电阻率分别为 Rb $^+$ FIBID-Pt 的 $8.1\times 10^4$ $\mathrm{\mu\Omega\cdot cm}$ 和 Ga $^+$ FIBID-Pt 的 $5.7\times 10^3$ $\mathrm{\mu\Omega\cdot cm}$ 。

关键词

聚焦离子束诱导沉积铂铷离子镓离子能量色散 X 射线光谱电阻率

引用

@article{arxiv.2212.02194,
  title  = {Rubidium Focused Ion Beam Induced Platinum Deposition},
  author = {Yang Li and Sheng Xu and Meltem Sezen and Feray Bakan Misirlioglu and Edgar Vredenbregt},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2212.02194},
  year   = {2023}
}

备注

5 pages, 5 figures

铷聚焦离子束诱导铂沉积

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关键词

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