仿射李超代数上的拟可积模（临界层）

李（超）代数的表示论多年来吸引了大量的研究兴趣，尤其是由于其在理论物理中的应用；在这方面，仿射李（超）代数的表示论至关重要。为了刻画仿射李（超）代数上的单模，有必要分别研究非零层和临界层的情形。尽管关于仿射李（超）代数 $\mathcal{L}$ 表示论的研究已有很多，但关于临界层上一般模的研究仍然有限。在所有现有研究中，所考虑模的刻画被归结为 $\mathcal{L}$ 的某些子代数上模的刻画。取决于原始模的结构，这些子代数——以及相应的模——具有不同的性质，其中一些已知，而另一些则需要单独研究。在本文中，我们完整刻画了在研究一般零层单有限权 $\mathcal{L}$-模时出现的扭仿射李超代数 $\mathcal{L}$ 的特定子代数 $\mathcal{G}$ 上的模。特别地，在 $\mathcal{G} = \mathcal{L}$ 的特殊情况下，我们获得了零层拟可积 $\mathcal{L}$-模的完整刻画。