石墨烯缺陷的微拉曼光谱及 UV 照射引起的氧化过程追踪
光学
2024-03-21 v1
摘要
拉曼光谱是分析包括碳基材料在内的各种样品的常用方法之一。本研究旨在使用微拉曼光谱识别石墨烯的层数和缺陷。更具体地说，该研究考察了在 UV 照射下石墨烯氧化过程的追踪。对拉曼激发激光功率密度效应的研究揭示了 I2D/IG 比值与激发激光功率密度之间的线性依赖关系。此外，由于功率密度增加导致 D 峰的缺失，为微拉曼光谱的非破坏性提供了证据。鉴于 I2D/IG（确定石墨烯层数的参数之一）在边缘处达到 1.39 的值，研究结果指出了单层石墨烯边缘折叠的可能性。在氧化过程中，D 峰的强度和位置作为照射时间的函数而增加。石墨烯拉曼光谱的改变，包括 2D 峰的消失和 D 峰的出现，追踪并证实了样品的氧化过程。
引用
@article{arxiv.2403.13191,
title = {Micro-Raman spectroscopy of graphene defects and tracing the oxidation process caused by UV exposure},
author = {Somayeh Gholipour and Maryam Bahreini and Mohamad Reza Jafarfard},
journal= {arXiv preprint arXiv:2403.13191},
year = {2024}
}