石墨烯中无序诱导的双共振拉曼过程
介观与纳米尺度物理
2015-01-29 v1
摘要
本文对石墨烯中的双共振拉曼散射过程进行了分析研究,该过程导致了拉曼光谱中的 D 和 D特征峰。本研究得出了 D 和 D积分拉曼强度的解析表达式,明确展示了其对激光能量、缺陷浓度和电子寿命的依赖关系。解析结果与在不同激光激发能量下、具有递增缺陷浓度的样品的实验测量结果吻合良好。文中讨论了利用拉曼光谱识别缺陷性质的方法。对比边缘诱导和无序诱导的 D 带强度模型表明,可以通过拉曼强度对激光激发能量的不同依赖关系来区分边缘或晶界与无序。同样,无序类型不仅可以通过强度比 识别,还可以通过其对激光能量的依赖性来识别。此外,还讨论了石墨烯波函数量子干涉效应的定量分析,该效应决定了导致 D 和 D带的最重要声子波矢和散射过程。
引用
@article{arxiv.1411.7760,
title = {Disorder-induced double resonant Raman process in graphene},
author = {J. F. Rodriguez-Nieva and E. B. Barros and R. Saito and M. S. Dresselhaus},
journal= {arXiv preprint arXiv:1411.7760},
year = {2015}
}
备注
10 pages, 4 figures