II 型 InAs/GaSb 超晶格红外探测器的材料与器件表征
应用物理
2019-08-05 v1
摘要
本研究考察了在 GaSb 衬底上通过分子束外延生长的中波红外 II 型 InAs/GaSb 超晶格(SL)。为补偿 InAs 层的天然拉伸应变,在生长过程中探索了两种不同的快门序列。第一种通过在两个界面(即 GaSb-on-InAs 与 InAs-on-GaSb 界面)上利用迁移增强外延生长一层有意的 InSb 层;第二种则利用锑替砷交换在 GaSb-on-InAs 界面处促成类 InSb 界面。通过高分辨 X 射线衍射、原子力显微镜与光致发光光谱,从结构、形貌与光学性质方面比较了两种方法所得的 SL。采用第二种方法,我们在 GaSb 上获得了近应变补偿的 SL,其一阶 SL 卫星峰半高宽为 56 arcsec。在 2 x 2 扫描区域上获得了均方根值约 0.19 nm 的相对光滑表面。最后,展示了截止波长为 5.15 (77K)的 p-i-n 器件结构,其在 -50 mV 下的暗电流水平为 ,残余载流子浓度为 ,可与最先进水平相比。
引用
@article{arxiv.1908.00797,
title = {Material and device characterization of Type-II InAS/GaSb superlattice infrared detectors},
author = {M. Delmas and M. C. Debnath and B. L. Liang and D. L. Huffaker},
journal= {arXiv preprint arXiv:1908.00797},
year = {2019}
}
备注
8 figures