拓扑绝缘体 Bi$_2$(Te$_{1-x}$Se$_x$)$_3$ 中的带间吸收边
材料科学
2018-02-05 v1
摘要
我们通过红外椭偏光谱与反射率相结合,在 0.06 至 6.5 eV 能量范围内研究了拓扑绝缘体 BiTe、BiSe 及其合金 Bi(TeSe) 在 BaF 衬底上的光学性质。对于 BiSe 中的带间吸收起始,在修正 Burstein-Moss 效应后,我们发现在 10 K 时直接带隙值为 meV。我们的数据支持如下图像:BiSe 具有位于布里渊区 点的直接带隙,且价带延伸至狄拉克点并具有向下取向抛物面的形状,即无驼峰结构。在 BiTe 中,10 K 时强直接带间吸收的起始位于约 200 meV 的相似能量处,并在约 170 meV 处有较弱的附加特征。我们的数据支持近期的 GW 能带结构计算,其表明直接带间跃迁不在 点发生,而是在布里渊区的 Z-F 线附近。在 Bi(TeSe) 合金中,直接带间跃迁起始能量在 附近(即 BiTeSe 的成分)呈现极大值,表明布里渊区中两点间直接带间跃迁的交叉发生在该成分附近。
引用
@article{arxiv.1711.08177,
title = {Interband absorption edge in topological insulators Bi$_2$(Te$_{1-x}$Se$_x$)$_3$},
author = {A. Dubroka and O. Caha and M. Hronček and P. Friš and M. Orlita and V. Holý and H. Steiner and G. Bauer and G. Springholz and J. Humlíček},
journal= {arXiv preprint arXiv:1711.08177},
year = {2018}
}
备注
9 figures