二氧化碳与水浓度对分子镀膜制备的镱薄膜影响
材料科学
2025-09-23 v1
摘要
在受控条件下制备了镱和钕薄膜，以阐明镱薄膜制备过程中水和二氧化碳的存在对制剂的影响。由于在含有可变浓度残余水和 \ce{CO2} 的受控惰性气氛中进行镀膜，研究了其对薄膜质量和沉积产率的影响。通过扫描电子显微镜分析薄膜的形貌，薄膜的沉积产率通过在主兹研究反应堆 TRIGA 中进行中子活化分析确定。对沉积层的化学分析采用红外、拉曼和 X 射线光电子能谱相结合的方法。拉曼和红外光谱显示水氢化物、氧化物和碳酸盐的形成。当水浓度超过 1 vol.-% 时，水对薄膜质量产生影响。\ce{CO2} 的存在导致碳酸盐含量增加，这会对薄膜质量产生负面影响。
引用
@article{arxiv.2509.17036,
title = {Influence of carbon dioxide and water concentration on terbium thin films produced by Molecular Plating},
author = {Ernst Artes and Primiana Cavallo and Tobias Häger and Carl-Christian Meyer and Christoph Mokry and Dennis Renisch and Jörg Runke and Evgenia Schaffner and Alice Seibert and Christina Trautmann and Christoph E. Düllmann},
journal= {arXiv preprint arXiv:2509.17036},
year = {2025}
}
备注
Radiochim. Acta 2025; aop