识别适用于高质量石墨烯基异质结构的衬底
材料科学
2017-06-12 v1 介观与纳米尺度物理
摘要
我们报道了一项扫描共焦拉曼光谱研究，该研究考察了在大量不同衬底材料（包括六方氮化硼（hBN）、过渡金属硫族化物、硅、不同氧化物与氮化物以及聚合物）上高质量化学气相沉积（CVD）石墨烯基异质结构的应变均匀性、总体应变与掺杂。通过采用一种hBN辅助、无污染、干法转移工艺处理CVD石墨烯，我们组装了具有低掺杂密度和低应变变化的高质量异质结构。这些原始异质结构的拉曼光谱对应衬底诱导的掺杂和应变变化敏感，因此被用于探测衬底材料对于潜在高质量石墨烯器件的适用性。我们发现，衬底材料的平整度是获得或保持高质量石墨烯的关键指标。
引用
@article{arxiv.1610.08773,
title = {Identifying suitable substrates for high-quality graphene-based heterostructures},
author = {Luca Banszerus and Hendrik Janssen and Martin Otto and Alexander Epping and Takashi Taniguchi and Kenji Watanabe and Bernd Beschoten and Daniel Neumaier and Christoph Stampfer},
journal= {arXiv preprint arXiv:1610.08773},
year = {2017}
}
备注
6 pages, 5 figures